石墨盤的分類
石墨盤因用處、加工工藝、資料特性等不同，有多種分類辦法，以下是常見的分類介紹：
按用處分類
半導(dǎo)體制效果石墨盤
特征：對純度要求極高，通常純度需到達(dá)99.99%以上，以避免雜質(zhì)對半導(dǎo)體器件功用的影響。外表平整度和光潔度要求也很嚴(yán)厲，以保證在半導(dǎo)體加工進(jìn)程中，如化學(xué)氣相堆積（CVD）、快速熱處理（RTP）等工藝中，能均勻地承載和加熱半導(dǎo)體晶圓。
運(yùn)用場景：在半導(dǎo)體芯片制作進(jìn)程中，用于承載硅片進(jìn)行外延成長、松散、氧化等工藝，是半導(dǎo)體制作設(shè)備中的關(guān)鍵部件。
真空爐用石墨盤
特征：具有杰出的耐高溫功用，能夠在高溫真空環(huán)境下長期安穩(wěn)工作，且不與爐內(nèi)氣氛發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。其結(jié)構(gòu)強(qiáng)度要滿足，以接受高溫下資料的熱膨脹和本身分量。
運(yùn)用場景：廣泛運(yùn)用于真空燒結(jié)爐、真空熱處理爐等設(shè)備中，用于放置和加熱各種金屬、陶瓷等資料，完結(jié)資料的燒結(jié)、退火、淬火等熱處理工藝。
玻璃加工用石墨盤
特征：要求具有必定的耐高溫功用和化學(xué)安穩(wěn)性，能接受玻璃熔化進(jìn)程中的高溫文化學(xué)侵蝕。一起，外表要光滑，以削減對玻璃制品的摩擦和危害。
運(yùn)用場景：在玻璃熔化、成型和退火等工藝中，用于承載和運(yùn)送玻璃液或玻璃制品，保證玻璃制品的質(zhì)量和形狀精度。
光伏工業(yè)用石墨盤
特征：純度和外表質(zhì)量要求較高，以保證在光伏電池制作進(jìn)程中不會(huì)引進(jìn)雜質(zhì)和缺陷。一起，要具有杰出的導(dǎo)熱功用，以保證硅片等資料在加工進(jìn)程中的溫度均勻性。
運(yùn)用場景：在光伏電池的松散、鍍膜等工藝中，用于承載硅片，是光伏工業(yè)中不可或缺的重要部件。
按加工工藝分類
等靜壓成型石墨盤
特征：采用等靜壓成型工藝制成，資料密度均勻，各向同性好，機(jī)械功用優(yōu)異。其內(nèi)部結(jié)構(gòu)細(xì)密，孔隙率低，具有較高的強(qiáng)度和硬度。
運(yùn)用場景：適用于對資料功用要求較高的范疇，如半導(dǎo)體制作、航空航天等。
模壓成型石墨盤
特征：經(jīng)過模具限制成型，生產(chǎn)效率高，本錢相對較低。但產(chǎn)品的密度和功用或許存在必定的各向異性，即不同方向上的功用有所差異。
運(yùn)用場景：常用于一些對功用要求不是特別苛刻的場合，如一般工業(yè)加熱設(shè)備中的石墨盤。
機(jī)械加工石墨盤
特征：以石墨塊材為質(zhì)料，經(jīng)過車削、銑削、鉆孔等機(jī)械加工辦法制成。能夠根據(jù)客戶的需求加工出各種雜亂的形狀和標(biāo)準(zhǔn)，但加工進(jìn)程中會(huì)發(fā)生必定的資料損耗。
運(yùn)用場景：廣泛運(yùn)用于各種需要定制形狀和標(biāo)準(zhǔn)的場合，如實(shí)驗(yàn)室設(shè)備、特殊工業(yè)爐等。
按資料特性分類
高純石墨盤
特征：純度極高，雜質(zhì)含量極低，通常雜質(zhì)總含量小于50ppm。具有杰出的導(dǎo)電性、導(dǎo)熱性和化學(xué)安穩(wěn)性，在高溫下不易氧化和腐蝕。
運(yùn)用場景：首要用于半導(dǎo)體、電子、航空航天等對資料純度要求極高的范疇。
細(xì)結(jié)構(gòu)石墨盤
特征：晶體結(jié)構(gòu)纖細(xì)，組織均勻，具有較高的強(qiáng)度、硬度和耐磨性。一起，其導(dǎo)熱性和導(dǎo)電性也較好，但相比高純石墨盤，純度或許稍低。
運(yùn)用場景：適用于一些對機(jī)械功用要求較高的場合，如機(jī)械密封、模具制作等。
浸漬石墨盤
特征：經(jīng)過浸漬工藝，將樹脂、金屬等資料浸入石墨的孔隙中，提高了石墨的強(qiáng)度、密封性和耐腐蝕性。根據(jù)浸漬資料的不同，可分為樹脂浸漬石墨盤和金屬浸漬石墨盤。
運(yùn)用場景：樹脂浸漬石墨盤常用于化工、食物等職業(yè)的密封和防腐設(shè)備中；金屬浸漬石墨盤則適用于一些高溫、高壓和強(qiáng)腐蝕的惡劣環(huán)境。
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